ИННОВАЦИИ БИЗНЕСУ

Результат выполнения НИР.

Экран содержит пленочное полотнище, уложенное на грунт основания и в траншеи с образованием в них компенсаторов. Глубина траншей определяется мощностью поверхностного, наиболее льдонасыщенного слоя грунтов основания. На дно и откосы траншей и на поверхность основания между ними отсыпан подстилающий слой из сухого сыпучего материала. В качестве сыпучего материала применяют песок или твердые отходы, например, хвосты или золу. Полотнище экрана в траншеях и на участках между ними защищено защитным слоем из такого же сыпучего материала, который применен для устройства подстилающего слоя.

Первый компенсатор выполнен непосредственно у подошвы верхового откоса ограждающей дамбы, на которой выведено пленочное полотнище. Остальные компенсаторы размещены на экранируемой площади ложа накопителя в соответствии со льдистостью и расчетными осадками оттаивающих грунтов; на участках с повышенной льдистостью компенсаторы расположены более часто.

Противофильтрационный экран укладывают и эксплуатируют следующим образом. Проводят планировку поверхности ложа и в зимний период выполняют проходку траншей в мерзлом грунте основания после чего на дно и откосы траншей и на поверхность ложа между ними отсыпают подстилающий слой из сухого сыпучего материала, укладывают пленочное полотнище с образованием компенсаторов, заглубленных в траншеи, затем отсыпают защитный слой из сухого сыпучего материала.

После завершения всех работ по устройству экрана в ложе накопителя выполняют работы по устройству экрана на верховом откосе ограждающей дамбы, после чего начинают заполнение накопителя. В ходе его эксплуатации происходят постепенное оттаивание и осадка грунтов основания между траншеями и соответствующее опускание экрана. Компенсаторы расправляются, и происходит выравнивание наружной поверхности экрана без нарушения его водоупорных свойств, продолжающееся до стабилизации термопросадочных деформаций оттаивающего основания.