Заявку на получение дополнительной информации по этому проекту можно заполнить здесь.
Номер 71-017-04 |
Наименование проекта Метод нанесения антикоррозийных покрытий с помощью струйного ВЧ- плазмотрона в условиях динамического вакуума |
Назначение Нанесение тонкого однородного покрытия с повышенными адгезионными характеристиками |
Рекомендуемая область применения Металлургическая промышленность, машиностроение, приборостроение |
Описание Результат выполнения научно-исследовательской работы. В настоящее время проводятся исследования по защите металлов от коррозии. Необходимо равномерное покрытие с минимальной толщиной. Этого добиваются лакировкой поверхности с применением химических реагентов или высокой температуры. При этом нарушается строение поверхности металла: нарушается кристаллическая решетка, увеличивается шероховатость поверхности. Нами предлагается технология нанесения окиси кремния из твердой и жидкой фазы. В плазменном сгустке происходит разложение наносимого состава на ионы, и, регулируя длину транспортного участка, изменяется химическое соотношение наносимого вещества. Во время нанесения материала происходят два процесса: очистка и активация поверхности материала, и сам рост покрытия. За счет этого наносимый материал имеет однородную структуру, повышенную адгезию отрыва от поверхности, и при этом можно наносить покрытие с большой толщиной. Нанесение покрытия осуществляется за счет испарения в сгустке ВЧИ-разряда материала, транспортировки паров наносимого материала потоком аргоновой плазмы к подложке и конденсации их на поверхности в условиях обдува потоком плазмы и бомбардировки поверхности ионами аргона с их рекомбинацией. Материал в сгусток индукционного разряда плазмотрона может поступать двумя путями: за счет вдува порошка с плазмообразующим газом, либо за счет внесения в сгусток разряда стержня из испаряемого материала. Давление в камере составляет от 13 до 133 Па, мощность в разряде - 2-3 кВт, внутренний диаметр плазмотрона - 25 мм, плазмообразующий газ- аргон. Такие параметры установки обеспечивают следующие характеристики плазмы: температура тяжелых частиц- 400-600 К, температура электронов -10000 К, плотность тока на поверхности - 2,5 А/м 2. Параметры плазмы позволяют проводить осаждение покрытия, например, из кварца толщиной 0,01-50 мкм при температуре подложки 100-200 °С. Опытно-промышленная установка состоит из вакуумной камеры объемом 0,3 м 3, вакуумных насосов производительностью 50 л/с, плазмотрона с водоохлаждаемой рубашкой и медного трубчатого индуктора. Для подачи газа используется игольчатый натекатель с редуктором. Ламповый генератор с частотой 1,76 МГц имеет колебательную мощность до 4 кВт. В камере имеется вращающийся держатель. Установка допускает нанесение покрытий на изделия из металлов и диэлектриков. |
Преимущества перед известными аналогами Аналоги не известны |
Стадия освоения Внедрено в производство |
Результаты испытаний Технология обеспечивает получение стабильных результатов |
Технико-экономический эффект Технология позволяет получить равномерное покрытие из окиси кремния на металлические и диэлектрические материалы. Толщина покрытия -от 50 A до 50 мкм |
Возможность передачи за рубеж Возможна передача за рубеж |
Дата поступления материала 13.07.2004 |
У павильонов Уральской выставки «ИННОВАЦИИ 2010» (г. Екатеринбург, 2010 г.)
Мероприятия на выставке "Инновации и инвестиции - 2008" (Югра, 2008 г.)
Открытие выставки "Малый бизнес. Инновации. Инвестиции" (г. Магнитогорск, 2007 г.)
Демонстрация разработок на выставке "Малый бизнес. Инновации. Инвестиции" (г. Магнитогорск, 2007 г.)