ИННОВАЦИИ БИЗНЕСУ

Результат выполнения технологической разработки.

Защитные фоторезисты - паяльные маски (пленочные и жидкие) применяются в радиоэлектронной промышленности для получения защитного покрытия в технологии изготовления печатных плат и выполняют функции электрической, механической и химической защиты при монтаже, пайке и эксплуатации печатных плат. Фоторезист наносится на печатные платы двумя способами: вакуумного ламинирования и трафаретным. При первом способе применяется пленочный фоторезист, при втором - жидкий.

Имеется патент на изобретение «Универсальная фотополимеризующаяся композиция паяльной маски для печатных плат с повышенными эксплуатационными характеристиками» № 2192661, зарегистрирован 10 ноября 2002года.

Фоторезист «Сухая пленочная паяльная маска» (СППМ), представляет собой материал, состоящий из окрашенного фотополимерного слоя, нанесенного на лавсановую (ПЭТФ) пленочную основу, и защищенный тонкой полиэтиленовой пленкой.

Паяльные маски в виде покрытия, за счет адгезионных свойств композиции, прикрепляются к печатной плате, и благодаря специальным условиям обработки, обеспечивают защиту чувствительной электроники печатных плат от таких воздействий, как травление агрессивными растворами, пайки свинцово-оловянными припоями, колебаний температуры и влажности окружающей среды.Максимальный объем потребления фоторезиста оценивается величиной в 15,3 тыс. м ² по пленочному фоторезисту и в 5,2 тыс. м ² по жидкому. Область применения - радиоэлектронная, радиоэлектронные предприятия оборонного комплекса и радиотехнические предприятия, выпускающие продукцию массового потребления. Основным поставщиком СППМ в России является фирма Dupont de Nemorow (США), торговая марка "Dynamask". Основным поставщиком жидкого фоторезиста - фирма "Lackwerke Peters Gmbh" (Германия), торговая марка "Elpemer".

Запросы этого рынка на сегодня удовлетворяются исключительно за счет импорта расходных материалов.

Налажено опытное производство. Фоторезист выставлялся на выставках: Химия 2001; Химэкспо 2002; Технологии двойного назначения 2002; на VII международной выставке-конгрессе «Высокие технологии. Инновации. Инвестиции», где материал награжден дипломами.

По теме объектаимеютсяпубликации.