Инновации бизнесу. Изготовления диффузионных кремниевых структур методом глубокой диффузии бора

ПОДРОБНАЯ ИНФОРМАЦИЯ

Заявку на получение дополнительной информации по этому проекту можно заполнить здесь.

Номер

19-011-02

Наименование проекта

Изготовления диффузионных кремниевых структур методом глубокой диффузии бора

Назначение

Изготовление исходных кремниевых пластин для полупроводниковых приборов

Рекомендуемая область применения

Изготовление мощных высоковольтных транзисторов

Описание

Результат выполнения технологической разработки.

В ОАО "Эльдаг" внедрен в производство технологический процесс глубокой диффузии бора на пластинах диаметром 100 и 76 мм.

Процесс проводят в диффузионных печах типа СДОМ - 3/100, при высокой температуре (1200-1300 єС) с применением карбид-кремниевой оснастки. Применяемый диффузант -bcl₃(треххлористый бор).

Толщина низкоомного слояp⁺(глубина диффузии) может составлять 100 - 200 мкм, в зависимости от требований заказчика. Отклонение толщины по пластине составляет не более 20 мкм, прогиб не более 40 мкм, шероховатость поверхности соответствует 14 классу.

Преимущества перед известными аналогами

Аналоги не известны

Стадия освоения

Внедрено в производство

Результаты испытаний

Технология обеспечивает получение стабильных результатов

Технико-экономический эффект

Увеличение объемов производства на 30%.

Возможность передачи за рубеж

Возможна передача за рубеж

Дата поступления материала

19.03.2002