ИННОВАЦИИ БИЗНЕСУ

479-00

Результат выполнения конструкторско-технологической разработки.

Разработан способ получения тонкопленочных металлических покрытий для ретуши дефектных мест рисунка фото- и рентгеношаблонов микросхем и изготовлена технологическая установка по залечиванию дефектов шаблонов.

При залечивании на дефектное место рисунка наносится непрозрачный для актиничного излучения элемент в виде пленочного квадрата со стороной 4…25 мкм. Метод нанесения элемента - лазерный пиролиз на подложке карбонила наносимого металла.

Пленочный рисунок из линий (в данном случае - металлического рения) создается в атмосферных условиях путем облучения подложки в смеси азота и паров карбонила металла сфокусированным лучом импульсного азотного лазера при перемещении подложки под лучом. Скорость роста пленки 0,01…0,03 нм/импульс. Поиск и залечивание дефекта рисунка производится под контролем оптического микроскопа с увеличением 300х. Время залечивания одного дефекта: фотошаблона - 5…15 с, рентгеношаблона - 30…80 с. Неровность края рисунка после залечивания дефекта меньше 0,5 мкм.

Преимущество разработанного процесса: проведение его при атмосферном давлении; пиролизу подвергается мономолекулярная ленка адсорбата; длительность лазерного импульса - единицы наносекунд; каждая точка выращиваемого рисунка подвергается многократному воздействию лазерного луча.