ИННОВАЦИИ БИЗНЕСУ

Результат технических разработок.

В настоящее время в практике изготовления электролитиче­ских конденсаторов все чаше применяется слоистая системаnb-nb₂o₅-mn₂, являющаяся основой используемых в микро­электронных изделиях ниобиевых оксидных конденсаторов. При этом важное значение имеет проблема разработки спосо­бов получения толстослойных оксидных пленок, которые бы позволили наладить производство высоковольтных ниобиевых конденсаторов. Такие пленки находят применение при созда­нии интегральных схем.

В качестве способа толстослойного оксидирования металлов предполагается использовать плазменно-электролитическое анодирование [1]. В отличие от обычного анодирования, когда оба электрода погружают в электролит, а процесс формовки ведут при малых плотностях тока (несколькоm/см ²), разработан технологический режим, где анодируемый образец помещается в электролит на глубину нескольких миллиметров, а катод располагается выше уровня электролита и плот­ность тока достигает сотниm/см ².

Пленки, полученные на ниобии при таком режиме формов­ки, имеют значительную толщину (десятки микрометров) и сравнительно высокое пробивное напряжение (более кило­вольта). Процесс анодирования реализован на специально разработанной установке [2]. Экспериментальные образцы изготовлялись из компактного ниобия в виде брусков и изолировались самотвердеющей пластмассой "Норакрил-100" со всех сторон, кроме рабочей поверхности. В полученных оксидных пленках неоднородность по толщине не превышала 20 процентов, а электрофизические параметры находились в заданных допусках.